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導光板核心技術
2009/02/27

核子支術
目前所使用之導光板核心技術分為兩種:



1.印刷法(ex. P-1):

  • 導光媒介: 網點油墨
  • 製程技術: 將設計好的網點分布,配合高發散光源物質的油墨,適當印刷於導光板底面


2.非印刷法(ex. P-2.1、P-2.2、P-2.3):
  • 導光媒介: V-cut或雙V-cut
  • 製程技術: 可利用機械式加工或化學式加工其中機械式加工技術包含雷射處理
  • 化學式加工技術包含
    A. 蝕刻處理
    電解拋光處理
    Stamper處理
    微結構處理

網點印刷
P-1 網點印刷
 
 
V-CUT處理
P-2.2 V-CUT處理
雙V-CUT處理
P-2.3 雙V-CUT處理
 
 



雙V-cut的優點

1.大幅提升模組輝度
以7”CCFL舉例,傳統設計之導光板中心輝度最高僅能達到5600nits,但使用雙V-cut設計輝度則可達到6100nits,相較於傳統設計法足足高出了8%的輝度值

2. 降低原料成本
同樣以7”CCFL舉例,傳統設計之背光模組由一片導光板,一張錂鏡以及一張擴散片組成後輝度介於4200~4500nits間,但使用雙V-cut設計後僅需一片導光板及兩張擴散片即可達到相近之輝度,若使用於量產即可大幅降低原料成本。

 

 

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